Bloque objetivo de titanio

Las impurezas en los sólidos del bloque objetivo de titanio y el oxígeno y la humedad en los poros son las principales fuentes de contaminación en las películas depositadas. Los objetivos para diferentes aplicaciones tienen diferentes requisitos para diferentes contenidos de impurezas. Por ejemplo, los objetivos de aleación de aluminio y aluminio puro para la industria de semiconductores tienen requisitos especiales para el contenido de metal alcalino y el contenido de elementos radiactivos.

Para reducir los poros en los sólidos objetivo y mejorar el rendimiento de las películas pulverizadas, generalmente se requiere que el objetivo tenga una alta densidad. La densidad del objetivo no solo afecta la velocidad de pulverización, sino que también influye en las propiedades eléctricas y ópticas de la película. Cuanto mayor sea la densidad objetivo, mejor será el rendimiento de la película. Además, aumentar la densidad y la resistencia del objetivo permite al objetivo resistir mejor las tensiones térmicas del proceso de pulverización. La densidad también es uno de los indicadores de rendimiento clave del material objetivo, el tamaño del grano y la distribución del tamaño de grano.
Por lo general, el objetivo es la estructura policristalina, el tamaño del grano puede ser de micras a milímetro. Para el mismo tipo de objetivo, la tasa de pulverización del objetivo con granos finos es más rápida que la del objetivo con granos gruesos; y la distribución de grosor de la película depositada por la pulverización del objetivo con una pequeña diferencia en el tamaño del grano (distribución uniforme) es más uniforme.