¿Qué es el ánodo de titanio para la electroplatación？
En las aplicaciones de electroplatación, el metal chapado deseado se disuelve en un electrolito, el sustrato de metal plateado se usa como electrodo negativo, y el ánodo se usa como electrodo positivo, es decir, se forma un ciclo de transferencia de corriente completo. La reacción química que ocurre en el baño de placas junto con el recubrimiento es la precipitación de oxígeno en la superficie del ánodo.
La ventaja del ánodo de titanio sobre los ánodos no inertes, como el grafito, es que mantiene una distancia estable entre los electrodos positivos y negativos (distancia entre electrodos) sobre su vida útil. Mientras que los ánodos de grafito se disuelven gradualmente durante el uso, lo que hace que la distancia entre los electrodos aumente, los ánodos de titanio inertes garantizan un voltaje estable y la calidad del producto. Debido a las propiedades catalíticas de los elementos del grupo de platino, la superficie del electrodo tiene un gran valor de densidad de corriente de intercambio y un bajo sobrepotencial de precipitación de oxígeno, y un proceso especial se usa especialmente para hacer una película de óxido con una estructura microfina en la superficie de titanio, que Resulta en una gran área de superficie activa por unidad de electrodo y, por lo tanto, es particularmente adecuado para la producción de electroplatación de alta velocidad y alta densidad.
Además de los ánodos de titanio y el grafito, los ánodos de plomo también se pueden usar en este campo. Sin embargo, cuando los ánodos de plomo se disuelven, sus reactivos tienen un impacto negativo en el medio ambiente. Estos problemas se pueden evitar con los anodos de titanio. Los ánodos de titanio precipitantes de oxígeno tienen un voltaje de funcionamiento más bajo, que también ahorra energía.
Otra ventaja del uso de ánodos de titanio es la reutilización del sustrato de titanio. Cuando la vida útil del recubrimiento del ánodo de titanio llega al final de su vida útil, la lámina de aluminio anodizado es un material comúnmente utilizado en la industria de la impresión litográfica. Funciona con el mismo principio que el proceso de electroplatación, donde se aplica una capa muy delgada de metal a la superficie del metal base. Al colocar el aluminio en un estado anodizado, la superficie del aluminio oxida. Como resultado del proceso de anodización (oxidación), la superficie del aluminio está mejor capaz de unirse con los recubrimientos fotosensibles requeridos en la industria de la impresión litográfica.
En la industria del revestimiento de metales, ya sea el ánodo de titanio con recubrimiento de platino, el ánodo de titanio recubierto de iridio o el ánodo de titanio recubierto de rutenio, etc., se utilizan para colocar una variedad de diferentes sustratos, desde pequeñas producción por lotes de joyas hasta producción de gran escala continua a gran escala continua a gran escala de láminas de acero plateadas. Desde producción de joyas de lotes pequeños hasta producción continua a gran escala de láminas de acero electrochado. Los productos anódicos de nuestra empresa ayudan a diversificar los sustratos de enchapado, y su diversificación se refleja en la diversidad de nuestros productos anódicos.
Comparación de la superioridad con el ánodo de plomo convencional para la electroplatación:
1) bajo voltaje de baño, bajo consumo de energía
2) baja tasa de pérdida de electrodo, tamaño estable
3) El electrodo tiene una buena resistencia a la corrosión, insolubilidad y no contaminación del baño, lo que hace que el rendimiento de la capa de recubrimiento sea más confiable.
4) El ánodo de titanio adopta un nuevo material y estructura, lo que reduce en gran medida su peso y facilita la operación diaria.
5) Larga vida útil y sustrato reutilizable ahorra costos.
6) El sobrepotencial de oxígeno es aproximadamente 0.5V más bajo que el del ánodo insoluble de aleación de plomo, lo que reduce el voltaje del baño y reduce el consumo de energía.
Rendimiento electroquímico y prueba de vida (Estándar de referencia HG/T2471-2007 Q/CLTN-2012)
| Title |
Enhanced Weightlessness (mg) |
Polarization Ratio (mv) |
Oxygen/chlorine potential V |
Test Conditions |
| Titanium-based iridium-tantalum |
≤10 |
＜40 |
＜1.45 |
1mol/L H2SO4 |
| Titanium-based ruthenium-iridium |
≤10 |
＜40 |
＜1.13 |
1mol/L H2SO4 |
| Titanium-based platinum |
≤1 |
＜40 |
＜1.75 |
1mol/L H2SO4 |
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