El ánodo de placa de titanio para la electrólisis de lámina de cobre es un tipo de ánodo de titanio para el ánodo de titanio recubierto de iridio, este en la imagen es un ánodo diseñado en placa de titanio.
El ánodo recubierto de titanio, nombre completo de óxido de metal de titanio, el ánodo recubierto de óxido de metal, habitualmente llamado DSA (ánodo dimensionalmente estable), es un nuevo tipo de material de ánodo insoluble con excelentes propiedades conductivas y catalíticas desarrolladas a fines de la década de 1960, es el componente central de Muchos sistemas o dispositivos electroquímicos industriales, utilizados principalmente en campos electroquímicos y electrometallúrgicos. Es el componente central de muchos sistemas o dispositivos electroquímicos industriales, utilizados principalmente en dos campos principales de electroquímica y electrometalurgia, utilizados en primer lugar en la industria de cloro-alcali, y ahora ampliamente utilizado en la industria química, electrometalurgia, producción de aluminio metálico, tratamiento de agua, ambiental ambiental. Protección, electroplatación, síntesis orgánica electrolítica, protección catódica, electrodiálisis y otros campos.
La lámina de cobre electrolítico es un material importante para el laminado revestido de cobre (CCL) y la placa de circuito impreso (PCB), fabricación de baterías de iones de litio. En el rápido desarrollo actual de la industria de la información electrónica, la lámina de cobre electrolítico se conoce como la transmisión de señal y potencia de productos electrónicos, comunicación, "red neuronal". En la actualidad, las placas de circuito impresas de China y el valor de salida de fabricación de baterías de iones de litio han ingresado a la vanguardia del mundo, lo que también hace que la industria de lámina de cobre electrolítico de China en los últimos años haya progresado rápidamente.
Ventajas completas del ánodo especializado de titanio
Bajo consumo de energía
Al aumentar la rugosidad macroscópica y microscópica del sustrato de titanio, optimizando la fórmula de recubrimiento y el proceso de preparación, aumentando el área de superficie activa catalítica del recubrimiento, reduciendo la densidad de corriente real, reduciendo la resistencia de la película de recubrimiento y la resistencia de la reacción electroquímica, así para reducir el voltaje del tanque de producción de lámina de cobre electrolítico. Nuestro voltaje del tando del tando es aproximadamente 0.15 V más bajo que el de los productos anódicos pares; Según diferentes corrientes de producción, cada columna de una sola máquina puede ahorrar 41-59 mil kWh de consumo de electricidad por año.
Buena uniformidad
Desde la explosión de arena y el rugosidad de la placa de sustrato de titanio hasta el proceso de recubrimiento y tratamiento térmico perfecto, asegura que el recubrimiento de la placa nueva o reparada preparada tenga una buena uniformidad y mejora la calidad de los productos de aluminio de cobre. La desviación de uniformidad del recubrimiento es <10%, que es inferior al límite superior de uniformidad del 15% en el estándar de Hg/T 2471-2011 "recubrimiento de ánodo de metal para tanques electrolíticos", que juega un papel clave en la mejora de la uniformidad de productos de aluminio de cobre.
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